2011 年 11 月 14 日，日本的半導體材料研發商日立化成 (Hitachi Chemical) 以 2 項專利侵權為由，控告韓國的半導體及平面顯示器設備供應商 K.C. Tech ，主要系爭產品是 K.C. Tech 所研發的產品編號 KCS-3100 氧化鈰拋光液 ( ceria slurries) ，全案將由德州西部聯邦地院負責審理調查。
本次的 2 項系爭專利編號為 US7,115,021 以及 US7,871,308 ，專利發明人為 Masato Yoshida 等 7 人，兩項專利所有權皆屬日立化成，主要涉及半導體器件的拋光技術，包括不會劃傷表面的粒子製造以及使用方法等等。
本案被告 K.C. Tech 成立於 1987 年，是韓國的半導體及平面顯示器設備供應商，主要負責半導體及平面顯示器的洗淨設備製造和電子原材料研發，其主力產品氧化鈰拋光液是由新設的奈米原材料團隊所研發，大部分應用於半導體晶圓平坦加工製程以及化學機械的研磨。
原告日立化成則是日本日立集團的子公司，在 1963 年成立後，主要從事半導體材料以及印刷電路板的製造銷售。
根據日立化成於訴狀上的敘述，大部分 K.C. Tech 所生產的系爭產品原料皆輸出至三星 (Samsung) 位於美國的德州廠，而就日立本身與三星之間的高度競爭關係以及在半導體、光碟機和家電用品等產品上的重疊情況看來，這次的訴訟可能不單單只是一次專利權的維護而已，反而又是另一層商業競爭的策略應用。 (473 字；表 1)
表一、專利訴訟案件基本資料：日立化成控告 K.C. Tech
| 訴訟名稱 |
Hitachi Chemical Co., Ltd. v. K.C. Tech Co., Ltd. |
| 提告日期 |
2011 年 11 月 14 日 |
| 原告 |
Hitachi Chemical Co., Ltd. |
| 被告 |
K.C. Tech Co., Ltd. |
| 案號 |
1:2011cv00969 |
| 訴訟法院 |
THE WESTERN DISTRICT OF TEXAS, AUSTIN DIVISION |
| 系爭專利 |
US7,115,021 、 US7,871,308 |
| 訴狀下載 |
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Source: 科技政策研究與資訊中心 — 科技產業資訊室整理， 2011/11
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