表面改善技術，在現今科技產業中，已爭得重要地位。過去三十年來，產品的表面改善與鍍膜技術，提升了新產品與既有產品的功能，也產生了更好的保護機能。
表面改善技術，一般包含了表面處理技術，改善了材料的機械性質；薄膜沉積技術或薄層材料披覆技術，它以不同材質的披覆使物件產生了新的表面。薄膜沉積技術已在許多不同的產業中，擔任極為重要的腳色；而超薄薄膜或奈米薄膜–厚度達奈米等級的薄層材料，將是下一階段沉積與包覆技術的主流。
|
全球奈米薄膜產值 (US$M) |
| |
2003 |
2006(f) |
2008(f) |
年均長率AAGR % (2003-2008) |
| 薄膜(>100 奈米) |
906.3 |
1,100.9 |
1,252.7 |
6.7% |
| 現有的奈米薄膜 |
222.7 |
364.0 |
505.7 |
17.8% |
| 開發中的奈米薄膜 |
0 |
196.5 |
292.6 |
22.0%* |
| 合計 |
1,129.0 |
1,661.4 |
2,051.0 |
12.7% |
| 奈米薄膜佔總值% |
19.7% |
33.7% |
38.9% |
|
*2006年到2008年成長率
資料來源：BCC公司 2004/06 |
|
奈米薄膜應用於微電子產值 (US$M) |
| |
技術 |
2003 |
2006(f) |
2008(f) |
年均長率AAGR % (2003-2008) |
| 矽晶圓 (百萬平方公尺) |
|
3.32 |
4.57 |
5.64 |
11.2% |
| 薄膜(>100 奈米) |
CVD |
234.2 |
274.2 |
305.0 |
5.4% |
| PVD |
337.1 |
415.3 |
477.1 |
7.2% |
| 合計 |
571.30 |
689.50 |
782.10 |
6.5% |
| 現有的奈米薄膜 |
濺鍍法 |
95.9 |
153.6 |
209.9 |
17% |
| 原子級沉積法 |
21.1 |
39.2 |
59.2 |
22.9% |
| 合計 |
117.00 |
192.80 |
269.10 |
18.1% |
| 開發中的奈米薄膜 |
新技術 |
0 |
95.00 |
119.00 |
11.9% |
| 合計 |
|
688.30 |
977.30 |
1170.20 |
11.2% |
| 資料來源：BCC公司 2004/06 |
|
奈米薄膜應用於微電子產值 (US$M) |
| 產品 |
2003 |
2006(f) |
2008(f) |
年均長率AAGR % (2003-2008) |
| 半導體 |
557.5 |
800.6 |
956.2 |
11.4% |
|
|
462.7 |
558.9 |
633.5 |
6.5% |
|
|
94.8 |
156.2 |
217.9 |
18.1% |
|
|
0 |
85.5 |
104.8 |
10.7% |
| 組件及顯示器 |
130.8 |
176.7 |
214.0 |
10.3% |
|
|
108.6 |
130.6 |
148.6 |
6.5% |
|
|
22.2 |
36.6 |
51.2 |
18.2% |
|
|
0 |
9.5 |
14.2 |
22.3% |
| 合計 |
688.3 |
977.3 |
1170.2 |
11.2% |
*2006年到2008年成長率
資料來源：BCC公司 2004/06 |
|
奈米薄膜應用於資訊儲存記憶體產業 (US$M) |
| |
技術 |
2003 |
2006(f) |
2008(f) |
年均長率AAGR % (2003-2008) |
| 薄膜(>100 奈米) |
蒸鍍法 |
50.9 |
56.3 |
60.2 |
3.4% |
| 濺鍍法 |
118.7 |
143.4 |
162.7 |
6.5% |
| 合計 |
169.6 |
199.7 |
222.9 |
5.6% |
| 現有的奈米薄膜 |
濺鍍法 |
50.6 |
92.8 |
139.0 |
22.4% |
| 開發中的奈米薄膜 |
新技術 |
0 |
45.0 |
86.6 |
38.7% |
| 合計 |
|
220.2 |
337.5 |
448.5 |
15.3% |
| 資料來源：BCC公司 2004/06 |
依據美國BCC公司發表的報告“Nanofilms: Markets and Technologies”指出，全球薄膜與奈米薄膜應用於八大主要產業的產值，在2003年已經達到11億美金，預估在2008年將超出20億美元，其年均成長率為12.7%。
其中，奈米薄膜(奈米級厚度小於100Nanometer)目前的產值為2.22億美金，佔薄膜總產值的19.7%；其主要係用來改善產品的品質，
並能將改良的特質更明確的顯現出來。濺鍍法及原子級薄層沉積法，都是通用而熟知的奈米薄膜製作技術。微電子產業、資訊儲存記憶體產業、光學製品產業等，是
奈米薄膜產品的三大主要用戶。現有奈米薄膜的產值，估計將以17.8%的年均成長率(AAGR)成長，並將在2008年達到5.057億美金。
新興的奈米薄膜技術、是基於奈米科技的披覆和薄膜技術，係著眼於未來需求所開發出來的技術。它們係由奈米顆粒或自組合成之奈米材料結合而成，再將其
轉換成薄層沉積，這些新材料大部份可望於2006年上市。薄層沉積的方法將採傳統方式或是一些目前正在發展的新製程。新興奈米薄膜的產值，預估在2006
年為1.965
億美元，並以22%的年平均成長率在2008年達到2.926億美元。現有的奈米薄膜與發展中的奈米薄膜在2008年將達到薄膜材料總產值的39%。
奈米薄膜產品的三大主要用戶 : 微電子產業、資訊儲存記憶體產業、光學製品產業。各別產值如右。
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